東京大学 工学系研究科 電気系工学専攻
アイン研は同学科の田中研究室・大矢研究室と密接に連携し研究を推進します。
他に東京大学の低温科学研究センター、ナノテクノロジープラットフォームの共用施設を利用でき、世界最先端の研究を行う環境が整っています。
底面圧:1×10 ^ -10Torr
ソース:
III族元素:Ga、Al、In(Kセル)
ドーパント:Si、Be(Kセル)
遷移元素、磁性材料用:Mn、Fe
V族元素:As(バルブドクラッカーセル500 cc)
Sb(バルブ付きクラッカーセル420cc)
その場観察:反射高速電子線回折(RHEED)
※田中研究室との共同研究により使用。
底面圧:1×10 ^ -10Torr
ソース:
III族元素:Ga、Al、In(Kセル)
ドーパント:Si、Be(Kセル)
遷移元素、磁性材料用:Mn、Fe
V族元素:As(バルブドクラッカーセル500 cc)
Sb(Kセル)
その場観察:反射高速電子線回折(RHEED)
※田中研究室との共同研究により使用。
底面圧:1×10 ^ -9Torr
基板は液体窒素を使用して冷却可能。
シャドーマスクの成長に利用可能
(低温科学研究センターの一般利用装置)
磁界範囲:0〜7T
温度範囲:1.5K〜室温
(東京大学ナノテクノロジープラットフォーム の一般利用装置)
(Common facility of Dept. of EEIS)
(Common facility of Nanotechnology Platform, the University of Tokyo)