研究環境

研究環境

アイン研は同学科の田中研究室・大矢研究室と密接に連携し研究を推進します。

他に東京大学の低温科学研究センター、ナノテクノロジープラットフォームの共用施設を利用でき、世界最先端の研究を行う環境が整っています。

III-V族用分子線エピタキシー 結晶成長装置(EQ2100)

底面圧:1×10 ^ -10Torr

ソース:

III族元素:Ga、Al、In(Kセル)
ドーパント:Si、Be(Kセル)
遷移元素、磁性材料用:Mn、Fe
V族元素:As(バルブドクラッカーセル500 cc)
     Sb(バルブ付きクラッカーセル420cc)

その場観察:反射高速電子線回折(RHEED)

 

※田中研究室との共同研究により使用。

Dirac材料用分子線 エピタキシー結晶成長装置(MBE508)

底面圧:1×10 ^ -10Torr

 

ソース:

III族元素:Ga、Al、In(Kセル)
ドーパント:Si、Be(Kセル)
遷移元素、磁性材料用:Mn、Fe
V族元素:As(バルブドクラッカーセル500 cc)
      Sb(Kセル)

その場観察:反射高速電子線回折(RHEED)

 

※田中研究室との共同研究により使用。

金属材料用 低温分子線エピタキシー結晶成長装置(システムM)

底面圧:1×10 ^ -9Torr

基板は液体窒素を使用して冷却可能。

  • MBEチャンバー(4ポート):Fe、Al、Sn
  • 電子ビーム蒸着チャンバー(3ポケット):SiO2、Nb、EuS

シャドーマスクの成長に利用可能

磁気円二色性測定装置(MCD) JASCO J700

  • 光検出器:GaAs、S1光電子増倍管(波長範囲0.2〜1.1μm)
  • 磁場範囲:〜1.2T
  • 温度範囲:4.5K〜室温

磁気電気伝導測定装置 (3システム)

  • 磁界範囲:〜1T
  • 温度範囲:3.5K〜室温
  • モーター駆動の磁石回転システム

オックスフォード製超電導マグネット電気伝導測定装置

  • 無冷媒式
  • 磁界範囲:0〜12T
  • 温度範囲:295mK〜室温
He3インサート付き

磁気特性測定システム(MPMS3)

(低温科学研究センターの一般利用装置)
磁界範囲:0〜7T
温度範囲:1.5K〜室温

電子スピン共鳴(ESR)システム

(東京大学ナノテクノロジープラットフォーム の一般利用装置)

Nano-device Fabrication Lab

(Common facility of Dept. of EEIS)

Takeda Super-cleanroom

(Common facility of Nanotechnology Platform, the University of Tokyo)

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