酸化物エレクトロニクス
強磁性酸化物と酸化物材料の界面に形成される高い移動度の輸送チャネルからなる酸化物ベース電子デバイスの研究開発を行っています。これらの酸化物界面の形成には酸素原子の位置の制御が重要な役割を果たします。これら研究は、高効率のスピンー電荷変換、高速トランジスタ、およびフレキシブル電子デバイスに有望です。
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2月 20, 2026
アイン基盤Sプロジェクト研究報告会を開催しました
9月 28, 2025
アイン准教授が代表する研究提案がNEXUSベトナム「半導体」に採択されました
9月 29, 2024
Giant Magnetoresistance Achieved in Atomically Precise Ferromagnetic Superlattice
低温分子線エピタキシー結晶成長法を用いてInAs 単結晶中にFe-As正四面体結合を1原子層の厚さの平面内 に閉じ込め、FeAs/InAs超格子構造を初めて作製できた。 超格子構造全体の強磁性秩序が強く、電気抵抗が外部磁 場によって500%も変化する巨大磁気抵抗効果を初めて 観測しました。 本成果に関する論文がNature Communications誌に 出版されました。
9月 29, 2024
Discovery of a New Electronic Conduction Phenomenon in Non-magnetic/Ferromagnetic Semiconductor Heterojunctions
非磁性半導体InAs/強磁性半導体(Ga, Fe) Sb二層ヘテ ロ接合において、巨大磁気近接効果および新しい近接 磁気抵抗効果を発見しました。さらに、ゲート電圧を 印加して磁気近接効果を制御することで非磁性層の電 子状態に大きなスピン分裂を発現できた。 強磁性半導体を用いた次世代スピントロニクス・デ バイスや量子情報処理にも使える可能性を示しました。 本論文がNature
9月 29, 2024
Achieved a World’s Highest Quality Single-Element Topological Dirac Semimetal
我々が世界最高品質のa-スズ (a-Sn) 薄膜をIII-V族 半導体InSb基板 (001) 上に結晶成長させることに成功 し、a-Sn薄膜の様々なトポロジカル物性を初めて明ら かにしました。
9月 29, 2024
Anh Lab’s research proposal has been accepted by the UTEC-Utokyo FSI Grant!
2022年度-2023年度(2年間)において、UTEC-Utokyo FSI から2000万円の研究費を得て下記のプロジェクトを推進します。 研究プロジェクト: 超伝導体/強磁性半導体からなるヘテロ接合の形成と量子デバイス 貴重なご支援、ありがとうございます! 本研究で是非次世代の量子情報基盤技術を築いていきたい。
